
分子態汙染物
分子態汙染物(AMC)是半導體生產用潔淨室對環境要求的一個新指標,20世紀90年代中期才提出。特別是生產集成電路的矽片發展到8英寸(1英寸=0.0254m)及其以上時,對汙染物的控製已由微粒發展到分子態汙染物,此時電路上1/2線寬大約在0.1pm以下。分子態汙染物粒徑為高效和超高效過濾器所過濾微粒的千分之一到萬分之一。
據我國台灣文獻估計,在潔淨室中AMC來源如下:新風5%~10%;
人員30%~40%;
生產中揮發25%~30%;
生產設備20%~30%。
可見內部汙染高於新風。
室內汙染來源有:化學原料、溶劑的揮發,室內的氣體釋放,人員本身及其疏忽造成的意外漏溢。
例如:氫氟酸與含氧化硼的過濾器所用濾材反應釋出硼化物,蝕刻劑及清洗區的酸蒸發,建築裝飾材料、簾幕、台麵材質、接縫密封膠、矽晶片儲存盒、PVC手套等塑膠材質都會散發出分子態汙染物,主要有氨、胺化物、酸、醇類及高揮發性物質。分子態汙染對半導體產品生產的影響主要表現在:其中的酸會腐蝕設備和矽片,使蝕刻速度變化;其中的堿會使顯影不清,光學儀器及矽片表麵霧化;其中的凝聚性有機物會使黏著力變低,接觸電阻增高,並影響清潔效果;其中的摻雜物會改變電壓,使電阻係數偏移,造成電氣特性改變。
據半導設備與材料國際組織提出的標準潔淨環境中氣態分子級化學汙染物的分級(SEMIF21一95)如表5-21所列。